시노펙스, 10나노급 AF필터 생산 라인 구축

올해 말 10나노급 PTFE멤브레인 핵심기술 개발 완료 예상

석유민 시노펙스 센터장이 AF필터 개발 샘플을 들고있는 모습. ⓒ 시노펙스

[프라임경제] 시노펙스(025320)는 10나노급 AF필터 생산 시설구축을 위한 설비투자를 결정했다고 9일 밝혔다.

AF필터는 ePTFE소재를 사용하는 필터다. 반도체 세정공정에서 사용되는 불산, 황산, 질산과 동일한 강산에서 견디면서도 나노급 크기의 불순물을 제거하는 역할을 한다.

시노펙스에 따르면 필터 자체에서 발생 가능한 용출물 농도를 수조 분의 일(PPT) 수준으로 관리해야 하는 것이 특징이다. 현재는 전량 수입에 의존하고 있다.

회사 관계자는 "최근 반도체 산업계에서는 10~20나노급의 고성능 필터가 사용된다"며 "최첨단 10나노급 이하의 반도체 생산을 위해선 10나노 이하의 필터가 필수적으로 필요한 상황"이라고 설명했다.

시노펙스는 AF필터에 사용되는 PTFE 소재 국산화를 위해 2019년부터 국책과제로 연구개발을 시작했다. 2020년에는 ePTFE소재 벤처기업인 프론텍 흡수합병했다. 올해 3월에는 20나노급 파일롯시설을 갖춰 해외 글로벌 업체수준의 연구개발(R&D) 역량을 확보했다.

이번에 투자하는 ePTFE 생산설비는 필터의 기공사이즈가 성인 평균 머리카락 두께(평균 약 100마이크로미터)의 약 1만분의 1에 해당하는 10나노급의 초미세 기공을 만드는 멤브레인 필터 기술이 적용된다. 국내에서 처음 적용되는 기술이란 게 회사 측 설명이다.

석유민 시노펙스 R&D 센터장은 "반도체 핵심공정 중 하나인 세정공정용 10나노급 여과기술은 최근 국내 반도체 산업 내 소부장공급망 안정을 위해 AF필터를 개발하게 됐다"며 "이번 생산시설 완공 및 양산화 시점인 2024년 하반기에는 15나노급의 양산용 제품을 출시할 예정"이라고 말했다.

이어 "향후2025년 말까지는 3나노급 필터 기술 개발과 양산 적용을 동시에 진행해 현재 글로벌 필터회사가 독점하고 있는 반도체용 케미컬필터 시장을 대체해 나갈 계획"이라고 덧붙였다.